Beschreibung

Beschreibung: Entwicklung eines Siebdruck Applikationsprozesses für Bipolarplatten Technologische Innovation: Vollautomatisierte Anlage zur hochratenfähigen Siebdruckapplikation von Klebstoffen und CIPG-Dichtungen auf Sickendichtungen von Bipolarplatten Wirtschaftlicher Benefit: Hocheffiziente Beschichtung von Bipolarplatten im vollautomatisierten Prozess steigert Effizenz im Vergleich zu Dispensprozessen auch bei komplexen Auftragsbildern und erlaubt konstante Schichthöhe Standort: Fraunhofer IFAM